xiamen powerway는 다른 방향 (111) 또는 (100) 방향으로 n 형, p 형 또는 반 절연성을 지닌 epi-ready 또는 기계 등급으로 lec (액상 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 gasb 웨이퍼 - 갈륨 안티 모나 이드를 제공합니다.
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1xiamen powerway는 leb (액상 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 다른 유형 (111) 또는 (100)의 n 형, p 형 또는 반절 연형으로 epi-ready 또는 기계 등급으로 성장한 gasb 웨이퍼 - 갈륨 안티 모나 이드를 제공합니다.
갈륨 안티 모나 이드 (gasb)는 iii-v 족의 갈륨 및 안티몬의 반도체 화합물입니다. 그것은 약 0.61 nm의 격자 상수를 갖는다. gasb는 적외선 탐지기, 적외선 led 및 레이저 및 트랜지스터, 열광 계 시스템.
웨이퍼 사양
목
명세서
웨이퍼 지름
2 "50.5 ± 0.5mm
3 "76.2 ± 0.4mm
4 "1000.0 ± 0.5mm
결정 방위
(100) ± 0.1 °
두께
2 "500 ± 25um
3 "625 ± 25um
4 "1000 ± 25um
1 차 평면 길이
2 "16 ± 2mm
3 "22 ± 2mm
4 "32.5 ± 2.5mm
보조 평면 길이
2 "8 ± 1mm
3 "11 ± 1mm
4 "18 ± 1mm
표면 마무리
p / e, p / p
꾸러미
에피 준비, 단일 웨이퍼 컨테이너 또는 cf 카세트
| 전기 및 도핑 사양 | |||||
| 전도 유형 | P 형 | P 형 | n 형 | n 형 | n 형 |
| 도펀트 | 도망자가없는 | 아연 | 텔루르 | 낮은 텔 루륨 | 높은 텔루르 |
| e.d.p cm -2 | 2 " ≤ 2000 년 삼" ≤ 5000 |
2 " ≤ 2000 년 삼" ≤ 5000 |
2 ", 3" ≤ 1000 4 " ≤ 2000 년 |
2 " ≤ 1000 3 ", 4" ≤ 2000 년 |
2, "3", 4 " ≤ 500 |
| 이동성 cm² v -1 에스 -1 | ≥500 | 450-200 | 3500-2000 | 3500-2000 | 3500-2000 |
| 캐리어 농도 cm -삼 | ≤ 2 * 10 17 | ≥ 1 * 10 18 | ( 91-900 ) * 10 17 | ≤ 2 * 10 17 |
≥ 5 * 10 17 |
xiamen powerway는 다른 방향 (111) 또는 (100)으로 n 형, p 형 또는 반 절연성을 갖는 epi-ready 또는 기계 등급으로 lec (액상 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 인 비움 웨이퍼 - 인듐 안티몬화물을 제공합니다.
xiamen powerway는 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 형, p 형 또는 반 절연성이 다른 (111) 또는 ((111) 또는 (111)으로) lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키) 또는 vgf 100).
xiamen powerway는 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 유형, p 유형 또는 반 절연 (111) 또는 (100)으로 lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 웨이퍼 - 인듐 비소화물을 제공합니다.
아모이 파워 웨이는 갭 웨이퍼 - 갈륨 포스 파이드를 제공하며 이는 lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키)를 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 형, p 형 또는 상이한 배향 (111) 또는 (100)에서 반 절연성을 갖는다.
fz- 실리콘 부유 물질 함량이 낮고 결함 밀도가 낮으며 완벽한 결정 구조를 갖는 단결정 실리콘이 부유 - 구역 공정으로 생산된다. 결정 성장 중에 어떠한 이물질도 도입되지 않는다. fz 실리콘 전도도는 일반적으로 1000 Ω-cm 이상이며, fz- 실리콘은 주로 고 역 전압 소자 및 광전자 소자를 생산하는 데 사용됩니다.12
우리는 탄화 규소 디바이스의 개발을 위해 6h 또는 4h 기판에 주문형 박막 (실리콘 카바이드) sic 에피 택시를 제공합니다. sic 에피 웨이퍼는 주로 쇼트 키 다이오드, 금속 산화막 반도체 전계 효과 트랜지스터, 접합 전계 효과 트랜지스터, 바이폴라 접합 트랜지스터, 사이리스터, gto 및 절연 게이트 바이폴라에 사용됩니다.12
pam-xiamen의 gan (질화 갈륨) 기반의 에피 택셜 웨이퍼는 초고 휘도의 청색 및 녹색 발광 다이오드 (LED) 및 레이저 다이오드 (LD) 애플리케이션 용입니다.
팸 - 샤먼 제안 포토 마스크 포토 마스크는 더 두꺼운 기판에 의해지지되는 마스킹 물질의 얇은 코팅이며, 마스킹 물질은 광을 다양한 정도로 흡수하고 맞춤 설계로 패턴 화 될 수있다. 이 패턴은 빛을 변조하고 오늘날의 거의 모든 디지털 장치를 제조하는 데 사용되는 기본 공정 인 포토 리소그래피 프로세스를 통해 패턴을 전송하는 데 사용됩니다.12
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