우리는 누구인가?

중국에서 화합물 반도체 소재의 선두 제조 업체로서. pam-xiamen은 1 세대 게르마늄 웨이퍼, ga, al, in, as 및 p를 기반으로하는 III-V 실리콘 도핑 n 형 반도체 재료에 대한 기판 성장 및 에피 택시가있는 2 세대 갈륨 비소로부터의 고급 결정 성장 및 에피 택시 기술을 개발합니다 mbe 또는 mocvd에 의해 3 세대로 성장 : 주도 및 전력 장치 응용을위한 실리콘 카바이드 및 질화 갈륨.12
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축적 및 개발 20 년 이상 후, 우리 회사는 기술 혁신과 인재 풀에 분명한 이점이 있습니다. 앞으로는 고객에게 더 나은 제품과 서비스를 제공하기 위해 실제 조치의 속도를 높여야합니다.
의사 짱 -하문 powerway 첨단 재료 공동의 CEO., LTD

우리의 제품

청색 레이저

GAN 템플릿

pam-xiamen의 템플릿 제품은 사파이어 기판에 증착 된 갈륨 나이트 라이드 (gan), 알루미늄 나이트 라이드 (aln), 알루미늄 갈륨 나이트 라이드 (algan) 및 인듐 갈륨 니트 라이드 (ingan) silicon carbide 또는 silicon.pam-xiamen의 템플릿 제품은 비용, 수율 및 성능면에서 디바이스를 향상시킬 수있는 우수한 구조적 품질과 높은 열 전도성으로 20 ~ 50 % 더 짧은 에피 택시 사이클 시간과 고품질 에피 택셜 디바이스 레이어를 가능하게합니다.12

실리콘에 관한 이야기

자립형 독립 기판

pam-xiamen은 uhb 주도 및 ld 용 프리 스탠딩 (gallium nitride) 기판 웨이퍼 용 제조 기술을 확립했습니다. (hydride vapor phase epitaxy, hvpe) 기술에 의해 성장한 우리의 gan 기판은 결함 밀도가 낮습니다.

가면 크리스탈

가 스 (갈륨 비소) 웨이퍼

pwam은 화합물 반도체 기판 인 갈륨 아세 나이드 결정체와 웨이퍼를 개발 및 제조합니다. 우리는 첨단 결정 성장 기술, 수직 구배 동결 (vgf) 및 가우스 웨이퍼 처리 기술을 사용하고 있으며, 결정 성장, 절단, 연삭에서 연마 가공 및 웨이퍼 청소 및 포장을위한 100 가지 클린 룸. 우리의 gaas 웨이퍼는 led, ld 및 microelectronics 응용 분야에 2 ~ 6 인치 주괴 / 웨이퍼를 포함합니다. 우리는 항상 현재 하위 상태의 품질을 개선하고 대형 기판을 개발하기 위해 노력하고 있습니다.12

결정체

sic 에피 택시

우리는 탄화 규소 디바이스의 개발을 위해 6h 또는 4h 기판에 주문형 박막 (실리콘 카바이드) sic 에피 택시를 제공합니다. sic 에피 웨이퍼는 주로 쇼트 키 다이오드, 금속 산화막 반도체 전계 효과 트랜지스터, 접합 전계 효과 트랜지스터, 바이폴라 접합 트랜지스터, 사이리스터, gto 및 절연 게이트 바이폴라에 사용됩니다.12

결정체

기판

pam-xiamen은 반도체 실리콘 카바이드 웨이퍼, 연구원을위한 다양한 품질의 등급으로 6 시간 및 4 시간을 제공합니다. 및 산업 제조업체. 우리는 sic 결정 성장 기술 및 sic 결정 웨이퍼 가공 기술을 개발했다, gan 에피 택시 디바이스, 파워 디바이스, 고온 장치 및 광전자 장치. 고급 분야의 선두 제조 업체가 투자 한 전문 회사로서 첨단 소재 연구 및 주정부 기관과 중국의 반도체 연구소와의 협력을 통해 우리는 지속적으로 현재 기판의 품질을 개선하고 대형 기판을 개발할 수 있습니다.12

선폭 expanaxy

웨이퍼 기반 에피 택셜 웨이퍼

pam-xiamen의 gan (질화 갈륨) 기반의 에피 택셜 웨이퍼는 초고 휘도의 청색 및 녹색 발광 다이오드 (LED) 및 레이저 다이오드 (LD) 애플리케이션 용입니다.

간결 핵 에피 택시

웨이퍼 반 에피 택셜 웨이퍼

갈륨 질화물 (gan) hemts (높은 전자 이동성 트랜지스터)는 rf 전력 트랜지스터 기술의 차세대 기술입니다. 팸 - 샤먼은 현재 사파이어 또는 실리콘에 algan / gan hemt epi 웨이퍼를 제공하고 사파이어 템플릿에는 algan / gan을 제공합니다 .

결정체

웨이퍼 리 클레임

pam-xiamen은 다음과 같은 sic reclaim 웨이퍼 서비스를 제공 할 수 있습니다.

왜 우리를 선택 했습니까

  • 무료 및 전문 기술 지원

    문의를 통해 무료 서비스를받을 수 있습니다. 25 개 이상의 경험 반도체 라인.

  • 좋은 판매 서비스

    우리의 목표는 모든 요구 사항을 충족시키는 것입니다. 아무리 작은 주문이라도 과 얼마나 어려운 질문 자격을 갖춘 제품과 만족스러운 서비스를 통해 모든 고객에 대해 지속적이고 수익성있는 성장을 유지할 수 있습니다.

  • 25 년 이상의 경험

    ~ 이상 25 년 이상 경험담 화합물 반도체 소재 분야 및 수출 사업에서 우리 팀은 고객의 요구 사항을 이해하고 전문적으로 프로젝트를 처리 할 수 ​​있음을 보증 할 수 있습니다.

  • 신뢰할 수있는 품질

    품질이 최우선입니다. 팸 - 시아 먼은 iso9001 : 2008 는 고객의 다양한 니즈를 충족시킬 수있는 상당량의 검증 된 제품을 제공 할 수있는 4 가지 근대적 인 면모를 소유하고 공유하며 모든 주문은 엄격한 품질 시스템을 통해 처리되어야합니다. 테스트 보고서는 각 선적마다 제공되며 각 웨이퍼는 보증 대상입니다.12

"우리는 일부 작업에 파워 웨이 에피 웨이퍼를 사용 해왔다. 우리는 에피의 품질에 매우 감동했다"
james s.speck, 캘리포니아 주 재료 학부
2018-01-25
"친애하는 팸 - 샤먼 팀, 당신의 직업 의견을 주셔서 감사합니다, 문제가 해결되었습니다, 우리는 당신의 파트너가되어 기쁘다"
라만 k. chauhan, 세린 포토닉스
2018-01-25
"내 질문과 경쟁력있는 가격에 대한 빠른 답장을 보내 주셔서 감사합니다. 매우 유용합니다. 곧 다시 주문할 것입니다."
마르크스 시거, ulm 대학
2018-01-25
"실리콘 카바이드 웨이퍼가 오늘 도착했습니다. 우리는 정말로 그들과 함께 기뻐했습니다! 제작진에게 엄지 손가락을!"
데니스, 엑서 터 대학
2018-01-25

세계에서 가장 유명한 대학 및 기업이 우리를 신뢰합니다.

최근 뉴스

Two inch GaN substrates fabricated by the near equilibrium ammonothermal (NEAT) method

2019-08-19

This paper reports two inch gallium nitride (GaN) substrates fabricated from bulk GaN crystals grown in the near equilibrium ammonothermal method. 2'' GaN wafers sliced from bulk GaN crystals have a full width half maximum of the 002 X-ray rocking curve of 50 arcsec or less, a dislocation density of mid-105 cm−2 or less, and an electron density of about 2 × 1019 cm−3. The high electron density is attributed to an oxygen impurity in the crystal. Through extensive surface preparation, the Ga surface of the wafer shows an atomic step structure. Additionally, removal of subsurface damage was confirmed with grazing angle X-ray rocking curve measurements from the 114 diffraction. High-power p–n diode structures were grown with metalorganic chemical vapor deposition. The fabricated devices showed a breakdown voltage of over 1200 V with sufficiently low series resistance. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at s...

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Enhancement of the quality of InAsSb epilayers using InAsSb graded and InSb buffer layers grown by hot wall epitaxy

2019-08-12

We have investigated the structural and electrical properties of InAsxSb1−x epilayers grown on GaAs(0 0 1) substrates by hot wall epitaxy. The epilayers were grown on an InAsSb graded layer and an InSb buffer layer. The arsenic composition (x) of the InAsxSb1−x epilayer was calculated using x-ray diffraction and found to be 0.5. The graded layers were grown with As temperature gradients of 2 and 0.5 °C min−1. The three-dimensional (3D) island growth due to the large lattice mismatch between InAsSb and GaAs was observed by scanning electron microscopy. As the thicknesses of the InAsSb graded layer and the InSb buffer layer are increased, a transition from 3D island growth to two-dimensional plateau-like growth is observed. The x-ray rocking curve measurements indicate that full-width at half-maximum values of the epilayers were decreased by using the graded and buffer layers. A dramatic enhancement of the electron mobility of the grown layers was observed by Hall effect measurements. So...

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Quality Variation of ZnSe Heteroepitaxial Layers Correlated with Nonuniformity in the GaAs Substrate Wafer

2019-08-06

ZnSe layers are grown heteroepitaxially on substrates cut from a LEC-grown, undoped semi-insulating GaAs(100) wafer along the diameter parallel to the [001] axis. The intensities of free-exciton photoluminescence and X-ray diffraction from the ZnSe layers show an M-shaped profile along the GaAs wafer diameter, and are inversely correlated with the etch-pit-density distribution of the GaAs wafer. This observation gives, for the first time, experimental evidence that the quality of ZnSe heteroepitaxial layers grown by recent epitaxial techniques can be limited by the quality of GaAs substrates. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at sales@powerwaywafer.com or powerwaymaterial@gmail.com

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Highly boron-doped germanium layers on Si(001) grown by carbon-mediated epitaxy

2019-07-29

Smooth and fully relaxed highly boron-doped germanium layers were grown directly on Si(001) substrates using carbon-mediated epitaxy. A doping level of  was measured by several methods. Using high-resolution x-ray diffraction we observed different lattice parameters for intrinsic and highly boron-doped samples. A lattice parameter of a Ge:B = 5.653 Å was calculated using the results obtained by reciprocal space mapping around the (113) reflection and the model of tetragonal distortion. The observed lattice contraction was adapted and brought in accordance with a theoretical model developed for ultra-highly boron-doped silicon. Raman spectroscopy was performed on the intrinsic and doped samples. A shift in the first order phonon scattering peak was observed and attributed to the high doping level. A doping level of  was calculated by comparison with literature. We also observed a difference between the intrinsic and doped sample in the range of second order phonon scattering. ...

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Epitaxial CdS Layers Deposited on InP Substrates

2019-07-22

The CdS layers were deposited on InP substrates by using the (H2–CdS) vapor growth technique. The single crystal layers of hexagonal CdS were obtained on InP (111), (110) and (100) with the following heteroepitaxial relationships; (0001) CdS//(111) InP and [bar 12bar 10] CdS//[01bar 1] InP, (01bar 13) CdS//(110) InP and [bar 2110] CdS//[bar 110] InP, (30bar 34) CdS//(100) InP and [bar 12bar 10] CdS//[01bar 1] InP. The CdS layers deposited on InP (bar 1bar 1bar 1) were identfied in terms of the twinned hexagonal crystals, twin planes of which were nearly parallel to (30bar 3bar 4) and its crystallographic equivalents. The compositional gradients were observed at the interface of the deposits and the substrates. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at sales@powerwaywafer.com or powerwaymaterial@gmail.com

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Absorption and dispersion in undoped epitaxial GaSb layer

2019-07-16

In this paper, we present the results of a theoretical and experimental investigation into the refractive index and absorption, at room temperature, of a 4 μm-thick undoped epitaxial layer of GaSb deposited on a GaAs substrate. A theoretical formula for optical transmission through an etalon was derived, taking into account the finite coherence length of the light. This formula was used to analyse the measured transmission spectra. The refractive index was determined in a wide spectral range, between 0.105 eV and 0.715 eV. The absorption was determined for photon energies between 0.28 eV and 0.95 eV. An Urbach tail was observed in the absorption spectrum, as well as a constant increase in absorption in the spectral region above the band gap. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at sales@powerwaywafer.com or powerwaymaterial@gmail.com

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Study on Cd vacancy in CdZnTe Crystal by Positron Annihilation Technology

2019-07-08

Cd vacancies in cadmium zinc telluride(CdZnTe) crystals have an important effect on the crystal properties. In this paper, position distribution and concentration change of Cd vacancy in CdZnTe crystal grown by the temperature gradient solution growth (TGSG) were investigated by positron annihilation technology (PAT), which was based on the potential energy distribution and probability density of the positron in the crystal. The results showed that, the density of Cd vacancy increased obviously from the first-to-freeze to stable growth of the ingots, while decreased along the radial direction of the ingots. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at sales@powerwaywafer.com or powerwaymaterial@gmail.com

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GaN substrate and GaN homo-epitaxy for LEDs: Progress and challenges

2019-07-03

After a brief review on the progresses in GaN substrates by ammonothermal method and Na-flux method and hydride vapor phase epitaxy (HVPE) technology, our research results of growing GaN thick layer by a gas flow-modulated HVPE, removing the GaN layer through an efficient self-separation process from sapphire substrate, and modifying the uniformity of multiple wafer growth are presented. The effects of surface morphology and defect behaviors on the GaN homo-epitaxial growth on free standing substrate are also discussed, and followed by the advances of LEDs on GaN substrates and prospects of their applications in solid state lighting. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at sales@powerwaywafer.com or powerwaymaterial@gmail.com

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The contact and photoconductivity characteristics between Co doped amorphous carbon and GaAs: n-type low-resistivity and semi-insulated high-resistivity GaAs

2019-06-17

The Co doped amorphous carbon films (a-C:Co), deposited by pulsed laser deposition, show p-n and ohmic contact characteristics with n-type low resistivity GaAs (L-GaAs) and semi-insulated high-resistivity GaAs (S-GaAs). The photosensitivity enhances for a-C:Co/L-GaAs, while inverse decreases for a-C:Co/S-GaAs heterojunction, respectively. Furthermore, the enhanced photosensitivity for the a-C:Co/L-GaAs/Ag heterojunction also shows deposition temperature dependence behavior, and the optimum deposition temperature is around 500 °C. Source:IOPscience For more information, please visit our website: www.semiconductorwafers.net, send us email at sales@powerwaywafer.com or powerwaymaterial@gmail.com

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Realization and characterization of thin single crystal Ge films on sapphire

2019-06-13

We have successfully produced and characterized thin single crystal Ge films on sapphire substrates (GeOS). Such a GeOS template offers a cost-effective alternative to bulk germanium substrates for applications where only a thin (<2 µm) Ge layer is needed for device operation. The GeOS templates have been realized using the Smart CutTM technique. 100 mm diameter GeOS templates have been manufactured and characterized to compare the Ge thin film properties with bulk Ge. Surface defect inspection, SEM, AFM, defect etching, XRD and Raman spectroscopy were all performed. The results obtained for each characterization technique used have highlighted that the material properties of the transferred thin Ge film were very close to the ones of a bulk Ge reference. An epitaxial AlGaInP/GaInP/AlGaInP double heterostructure was grown atop the GeOS template to demonstrate the template's stability under the conditions encountered in typical device realization. The photoluminescent behavior of thi...

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