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우리의 기술


웨이퍼 공정 :


웨이퍼 결정 성장

결정 웨이퍼의 제조에서, 제 1 임계 단계는 단결정 성장이다. 질소, 바나듐, 붕소 또는 인과 같은 도펀트의 비율이 작은 원료 물질로서 다결정을 사용한다. (이 도펀트는 결정으로부터 슬라이스 된 웨이퍼의 전기적 특성 또는 저항을 결정 함), 봉인 된 성장로를 통해 잉곳을 성장시킨다.


웨이퍼 절단

잉곳의 시드 엔드 (상단)와 테이퍼 엔드 (하단)를 제거한 다음 나중에 따르는 슬라이스 작업을 최적화하기 위해 잉곳을 더 짧은 섹션으로 자릅니다. 그 다음에, 각 단면은 기계식 선반의 특정 지름까지 연마됩니다. 마지막으로 크리스탈을 웨이퍼로 절단합니다.


웨이퍼 연마

반도체 장치의 웨이퍼 제조에는 웨이퍼 연마가 필요합니다. 첫 번째 단계는 기계적 연마에 의한 거친 랩핑이고, 두 번째 단계는 cmp (화학적 기계적 연마)에 의한 얇은 연마이며, 웨이퍼의 평탄 도와 표면 거칠기를 개선하고, 에피 택셜 슬라이스의 경우, 최종적으로 에피 - 레디 웨이퍼가된다.


웨이퍼 세정

연마 중에는 이미 일련의 세정 시스템으로 진행됩니다. 그러나 웨이퍼가 용기에 포장되기 전에 웨이퍼를 검사하여 흠집, 반점 및 개재물이 있는지 확인해야합니다.


웨이퍼 에피 택시

에피 택시 (epitaxy)는 반응기에 의해 웨이퍼 기판의 연마 된 표면을 얇게 성장시킨 다음 에피 웨이퍼 (epiwafer)가되어 세계의 화합물 반도체 소자를 제조 할 수있는 고객을 제공하는 공정이다.


성장 및 에피 택시 기술


수 소화물 증기 상 에피 택시 (hvpe) 기술

gan, aln 및 algan과 같은 화합물 반도체 생산을위한 hvpe 공정 및 기술로 성장했습니다. 고체 상태 조명, 단파장 옵토 일렉트로닉스 및 rf 전원 장치와 같은 광범위한 응용 분야에 사용됩니다.

자세한 정보가 필요하면 다음을보십시오. http://www.powerwaywafer.com/gan-templates.html


분자선 에피 택시 (mbe) 기술

mbe는 원자 두께를 가진 물질의 층을 기판 위에 놓는 방법입니다. 이것은 기판에 충돌하는 물질의 '분자 빔'을 생성함으로써 이루어진다. 결과적인 '초 격자 (superlattices)'는 반도체 시스템을위한 양자 우물 레이저와 금속 시스템을위한 거대한 자기 저항을 포함하여 기술적으로 중요한 여러 용도를 가지고있다.


금속 유기 화학 기상 증착 (mocvd) 기술

금속 유기 화학 기상 증착 (mocvd) 또는 금속 - 유기 기상 성장 법 (movpe)은 웨이퍼 기판 상에 원자를 증착시킴으로써 에피 택시 (epitaxy)를위한 화학 기상 증착 방법이다.

자세한 정보가 필요하면 다음을보십시오. http://www.powerwaywafer.com/gaas-epiwafer.html


이제 우리는 mbe와 mocvd에 대해 간략하게 소개합니다.


1 : mbe

mbe는 원자 두께를 가진 물질의 층을 기판 위에 놓는 방법입니다. 이것은 기판에 충돌하는 물질의 '분자 빔'을 생성함으로써 이루어진다. 결과적인 '초 격자 (superlattices)'는 반도체 시스템을위한 양자 우물 레이저와 금속 시스템을위한 거대한 자기 저항을 포함하여 기술적으로 중요한 여러 용도를 가지고있다.

화합물 반도체 산업에서 mbe 기술을 사용하여 GaAs 및 기타 화합물 반도체 기판에 에피 텍시 층을 성장시키고 에피 웨이퍼를 제공하고 마이크로 웨이브 및 rf 어플리케이션을위한 다층 기판을 개발합니다.


1-1 : 분자선 에피 택시의 특성 :


초당 ~ 1 단층 (격자면)의 낮은 성장률

낮은 성장 온도 (가나의 경우 ~ 550 ° C)

원자의 높이와 넓은 평평한 계단을 가진 부드러운 성장 표면

표면 조성 및 형태의 정밀한 제어

계면에서 급격한 화학적 조성의 변화

원자 수준에서 결정 성장의 in-situ 제어


1-2 : mbe 기술의 장점 :


청정 성장 환경

빔 플럭스의 정밀한 제어

성장 조건

현장에서 쉽게 구현

진단기구

다른 고진공과의 호환성

박막 가공 방법 (금속

증발, 이온빔 밀링, 이온 주입)


1-3 : 프로세스 mbe :


2 : mocvd

금속 유기 화학 기상 증착 (mocvd) 또는 금속 - 유기 기상 성장 법 (movpe)은 웨이퍼 기판 상에 원자를 증착시킴으로써 에피 택시 (epitaxy)를위한 화학 기상 증착 방법이다.


mocvd 원리는 매우 간단합니다 : 크리스탈에 포함시키고 자하는 원자는 복잡한 유기 가스 분자와 결합되어 뜨거운 웨이퍼 기판을 통과합니다. 열은 분자를 분해하고 표면에 원하는 원자를 층별로 증착합니다. 기체의 조성을 변화시킴으로써 결정의 성질을 거의 원자 규모로 변화시킬 수있다. 그것은 고품질의 반도체 층을 성장시킬 수 있고, 이들 층의 결정 구조는 기판의 결정 구조와 완전히 정렬된다.




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