이 논문에서는 암모니아 방법으로 비극성 (즉, m- 평면 및 a- 평면) 및 반 극성 (즉, (20.1) - 평면) 웨이퍼를 생산하는 개발을 검토한다. 성장 방법 및 연마 결과가 설명된다. 우리는 26 mm × 26 mm의 비 및 반 극성 웨이퍼를 생산하는 데 성공했습니다. 이들 웨이퍼는 104 cm-3 정도의 스레딩 전위 밀도를 갖는 뛰어난 구조적 및 광학적 특성을 갖는다. 호모 에피 택셜 층에 대한 상세한 연구는 물론 알곤 헤테로 구조 (algan heterostructures)가 제시되어 옵토 일렉트로닉스 소자 제조에 연구 된 암모니아 열 기판의 잠재 성을 보여준다. 출처 : iopscience 자세한 내용은 당사 웹 사이트를 방문하십시오 : http://www.semiconductorwafers.ne...
레이저 간섭 리소그래피를 사용하여 srtio3 단결정 기판상의 srruo3 하부 전극의 전체 영역 (10mm × 10mm)에 잘 배열 된 pb (zr0.2ti0.8) o3 나노 디스크 및 나노 링의 웨이퍼 스케일 어레이가 제조되었다 (lil) 공정과 펄스 레이저 증착을 결합한 것입니다. 나노 구조의 모양 및 크기는 패턴 화 된 홀을 통해 증착 된 pzt의 양 및 후 결정화 단계의 온도에 의해 제어되었다. X- 선 회절 및 투과 전자 현미경으로 (001) 배향 된 단결정 기판을 덮는 srruo3 (001) 하부 전극층 상에 (001) 배향 된 pzt 나노 구조가 에피 택셜하게 성장 함을 확인 하였다. pzt 나노 섬의 도메인 구조는 싱크로트론 X 선 방사를 이용한 상호 공간 맵핑에 의해 특징 지어졌다. 각 p...
우리는 결함이없는 아연 브레이 드 insb 나노 와이어의 au-assisted 화학 빔 에피 택시 성장을보고했다. 재배 된 insb 세그먼트는 inas (111) b 기판상의 inas / insb 헤테로 구조의 상부 섹션이다. 우리는 시간 분석을 통해 아연 결함을 스태킹 결함이나 트윈 평면과 같은 결정 결함없이 성장시킬 수 있음을 보여줍니다. 스트레인 - 맵 분석은 insb 세그먼트가 인터페이스로부터 수 나노 미터 이내에 거의 이완되어 있음을 보여줍니다. 포스트 성장 연구에 의해 촉매 입자 조성은 auin2이며, tdmasb 플럭스 하에서 샘플을 냉각시킴으로써 auin 합금으로 변할 수 있음을 발견했다. 출처 : iopscience 자세한 내용은 당사 웹 사이트를 방문하십시오 :www.semiconducto...
매우 인장 변형이 심한 sub-monolayer ge nanostructures on 가스통 분자 빔 에피 택시 (molecular beam epitaxy)에 의해 성장되었고 초고 진공 주사 터널링 현미경에 의해 연구되었다. gasb에서 ge 나노 구조의 4 가지 적용 범위가 달성되고 조사된다. gasb에서 Ge의 성장이 2d 성장 모드를 따른다는 것을 알 수있다. 하위 단층의 결정 격자 GE 나노 구조물은 가스 나노 튜브의 응집력과 일관성이 있으며, 나노 구조물에서 7.74 %의 인장 변형을 추정한다. 출처 : iopscience 자세한 내용은 당사 웹 사이트를 방문하십시오 :www.semiconductorwafers.net , 이메일을 보내주십시오.angel.ye@powerwaywafer.com 또는po...
균질 재료의 경우, 주로 Newton 's 알고리즘을 기반으로하는 수치 최적화 과정과 관련된 초음파 침지 법을 사용하여 다양한 합성 및 천연 복합 재료에 대한 탄성 상수를 결정할 수 있습니다. 그럼에도 불구하고 고려 대상 물질이 동질성 가설의 한계에있을 때 기존 최적화 절차의 주요 한계가 발생합니다. 이는 짠 양방향 SiC 매트릭스의 경우이며, SiC 섬유 복합 재료. 본 연구에서는 2D SiC의 탄성 상수 결정을위한 두 가지 수치 적 방법을 개발했다. SiC 복합 재료 (2D SiC / SiC). 첫 번째 것은 Newton의 알고리즘을 기반으로합니다. 탄성 상수는 실험 속도와 계산 속도 간의 제곱 편차를 최소화하여 얻습니다. 두 번째 방법은 Levenberg-Marquardt 알고리즘을 기반으로합니...
높은 성장 속도와 대 면적 균일 성을 동시에 달성 할 수있게하는 수직 고온 벽면 반응기가 개발되었다. 250 μm / h의 최대 성장 속도는 1650 ° C에서 거울처럼 생긴 형태로 이루어집니다. 수정 된 상태에서 에피 반응기 79㎛ / h의 높은 성장 속도를 유지하면서 65mm 반경 영역에 대해 1.1 %의 두께 균일 성 및 6.7 %의 도핑 균일 성이 달성된다. 반경 50 mm 영역에 대해 ~ 1 × 1013 cm-3의 낮은 도핑 농도가 얻어집니다. 저온 광 발광 (LTPL) 스펙트럼은 불순물과 관련된 피크가 거의없는 자유 엑시톤 피크와 검출 한계 이하의 L1 피크가 우세하다는 것을 보여줍니다. 80 μm / h에서 성장한 epilayer의 deep level transient spectroscopy (...
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