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p-type gan의 오믹 접촉 형성에 대한 mg-doped gan 캡핑 층의 얇은 영향

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p-type gan의 오믹 접촉 형성에 대한 mg-doped gan 캡핑 층의 얇은 영향

2018-07-11

과도하게 mg 도핑 된 얇은 성장 조건 p-type gan의 오믹 접촉 형성에 미치는 영향을 조사 하였다.


과량의 도핑은 pI와의 ni / au 접촉을 효과적으로 향상시킬 수 있음을 확인 하였다. 550 ° C에서 어닐링 후. Mg와 Ga 가스 소스 사이의 유량 비율이 6.4 %이고 층 폭이 25nm 일 때, 850 ℃에서 성장한 캡 핑층은 특정 접촉 저항 (ρc)에 대해 가장 우수한 오믹 접촉 특성을 나타낸다. 이 온도는 mg- 도핑 된 gan의 통상적 인 성장 온도보다 훨씬 낮아, 딥 - 레벨 - 결함 유도 된 밴드가 캡 핑층의 전도에 중요한 역할을 할 수 있음을 암시한다.


출처 : iopscience


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