인듐 인화물은 광학 시스템이 데이터 센터, 모바일 백홀, 메트로 및 장거리 어플리케이션에 필요한 성능을 제공 할 수있게하는 핵심 반도체 소재입니다. inp에서 제작 된 레이저, 포토 다이오드 및 도파관은 유리 섬유의 최적 전송 창에서 작동하므로 효율적인 광섬유 통신이 가능합니다. pam-xiamen의 독점적 인 에칭 기술 (eft)은 전통적인 반도체 제조와 유사한 웨이퍼 레벨 테스트를 가능하게합니다. eft는 높은 수율, 높은 성능 및 신뢰할 수있는 레이저를 가능하게합니다.

1) 2 인치 inp 웨이퍼

방향 : ± 0.5 °

타입 / 도펀트 : n / s; n / un-doped

두께 : 350 ± 25mm

이동성 : \u0026 gt; 1700

담체 농도 : (2 ~ 10) e17

epd : \u003c50000cm ^ -2

광택 : ssp

2) 1 \", 2\"inp 웨이퍼

방향 : ± 0.5 °

타입 / 도펀트 : n / 도핑되지 않은

두께 : 350 ± 25mm

이동성 : \u0026 gt; 1700

담체 농도 : (2 ~ 10) e17

epd : \u003c50000cm ^ -2

광택 : ssp

3) 1 \", 2\"inp 웨이퍼

방향 : ± 0.5 °

타입 / 도펀트 : n / s; n / un-doped

두께 : 350 ± 25mm

광택 : ssp

4) 2 \"inp 웨이퍼

방향 : b ± 0.5 °

타입 / 도펀트 : n / te; n / undoped

두께 : 400 ± 25mm, 500 ± 25mm

광택 : ssp

5) 2 \"inp 웨이퍼

방향 : (110) ± 0.5 °

타입 / 도판 트 : p / zn; n / s

두께 : 400 ± 25mm

광택 : ssp / dsp

6) 2 인치 inp 웨이퍼

배향 : (211) b; (311) b

타입 / 도판 트 : n / te

두께 : 400 ± 25mm

광택 : ssp / dsp

7) 2 인치 inp 웨이퍼

배향 : (100) 2 ° off +/- 0.1 degree t.n. (110)

타입 / 도펀트 : si / fe

두께 : 500 ± 20mm

광택 : ssp

8) 2 \"크기 ingaas / inp 에피 택셜 웨이퍼 및 우리는 사용자 정의 사양을 허용합니다.

기판 : (100) inp 기판

에피 층 1 : in0.53ga0.47as 층, 도핑되지 않은, 두께 200nm

에피 층 2 : in0.52al0.48as 층, 도핑되지 않은, 두께 500nm

에피 층 3 : in0.53ga0.47as 층, 도핑되지 않은, 두께 1000nm

최상층 : in0.52al0.48as 층, 도핑되지 않은, 두께 50nm

하문 powerway 고급 재료 공동., 주식 회사 (팸 - 하문) 업계에서 가장 높은 순도 ingaas / inp 에피 택셜 웨이퍼를 제공합니다. 정교한 제조 공정은 고속, 장파장 이미징, 고속 hbt 및 hemts, apds 및 아날로그 - 아날로그 변환기에 이상적으로 적합한 1.7 ~ 2.6μm의 파장에서 최대 4 인치의 고품질 인화 인듐 에피 택셜 웨이퍼를 사용자 정의하고 생산하기 위해 설치되었습니다. 디지털 변환기 회로. inp 기반 구성 요소를 사용하는 응용 프로그램은 gaa 또는 sige 기반 플랫폼에 구성된 유사한 구성 요소와 비교하여 전송 속도를 크게 초과 할 수 있습니다.

상대적인 제품 :

inas 웨이퍼

웨이퍼 인서트

inp 웨이퍼

가나 웨이퍼

가스 웨이퍼

갭 웨이퍼

당신이 insb 웨이퍼에서 더 흥미있는 경우에, 저희에게 전자 우편을 보내십시오; sales@powerwaywafer.com 저희 웹 사이트를 방문하십시오 : www.powerwaywafer.com .