팸 - 샤먼 제안 포토 마스크
포토 마스크는 더 두꺼운 기판에 의해지지되는 마스킹 물질의 얇은 코팅이며, 마스킹 물질은 광을 다양한 정도로 흡수하고 맞춤 설계로 패턴 화 될 수있다. 이 패턴은 빛을 변조하고 오늘날의 거의 모든 디지털 장치를 제조하는 데 사용되는 기본 공정 인 포토 리소그래피 프로세스를 통해 패턴을 전송하는 데 사용됩니다.
pam-xiamen은 포토 레지스트가있는 포토 레지스트 판을 제공합니다.
우리는 nanolithography (포토 리소그래피) : 표면 준비, 포토 레지스트 적용, 소프트 베이크, 정렬, 노광, 현상, 하드 베이크, 현상 검사, 에칭, 포토 레지스트 제거 (스트립), 최종 검사를 제공 할 수 있습니다.
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