xiamen powerway는 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 유형, p 유형 또는 반 절연 (111) 또는 (100)으로 lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 웨이퍼 - 인듐 비소화물을 제공합니다.
xiamen powerway는 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 유형, p 유형 또는 반 절연 (111) 또는 (100)으로 lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 웨이퍼 - 인듐 비소화물을 제공합니다.
인듐 비화물, inas는 인듐과 비소로 구성된 반도체입니다. 녹는 점이 942 ° C 인 회색 입방 형 결정체가있다. [2] 인듐 아세 나이드는 적외선 탐지기의 제작에 사용되며 파장 범위는 1-3.8μm이다. 검출기는 일반적으로 광전지 포토 다이오드입니다. 극저온 냉각 형 검출기는 낮은 잡음을 가지지 만, inas 검출기는 상온에서도 고전력 애플리케이션에 사용될 수 있습니다. 인듐 비화물은 또한 다이오드 레이저를 만드는데 사용됩니다.
인듐 아세 나이드는 갈륨 비소와 유사하며 직접적인 밴드 갭 물질입니다. 인듐 아세 나이드는 때로 인듐 인화물과 함께 사용됩니다. 갈륨 아세 나이드와 합금하여 인듐 갈륨 비소 - 인 / 갈륨 비에 의존하는 밴드 갭을 갖는 물질로 인듐 갈륨 질화물을 생성하는 인듐 질화물과 질화 갈륨을 합금하는 것과 주로 유사한 방법.
| 웨이퍼 사양 | |
| 목 | 명세서 |
| 웨이퍼 지름 | 2 "50.5 ± 0.5mm 3 "76.2 ± 0.4mm |
| 결정 방위 | (100) ± 0.1 ° |
| 두께 | 2 "500 ± 25um 3 "625 ± 25um |
| 1 차 평면 길이 | 2 "16 ± 2mm 3 "22 ± 2mm |
| 보조 평면 길이 | 2 "8 ± 1mm 3 "11 ± 1mm |
| 표면 마무리 | p / e, p / p |
| 꾸러미 | 에피 준비, 단일 웨이퍼 컨테이너 또는 cf 카세트 |
| 전기 및 도핑 사양 | |||||
| 전도 유형 | n 형 | n 형 | n 형 | P 형 | P 형 |
| 도펀트 | 도망자가없는 | 저 유황 | 높은 유황 | 낮은 아연 | 높은 아연 |
| e.d.p cm -2 | 2 " ≤ 15,000 삼" ≤ 50,000 |
||||
| 이동성 cm² v -1 에스 -1 | ≥ 23000 | 25000-15000 | 12000-7000 | 350-200 | 250-100 |
| 캐리어 농도 cm -삼 | ( 1-3 ) * 10 16 | ( 4-8 ) * 10 16 | ( 1-3 ) * 10 18 | ( 1-3 ) * 10 17 | ( 1-3 ) * 1018 |
xiamen powerway는 다른 방향 (111) 또는 (100)으로 n 형, p 형 또는 반 절연성을 갖는 epi-ready 또는 기계 등급으로 lec (액상 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 인 비움 웨이퍼 - 인듐 안티몬화물을 제공합니다.
xiamen powerway는 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 형, p 형 또는 반 절연성이 다른 (111) 또는 ((111) 또는 (111)으로) lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키) 또는 vgf 100).
아모이 파워 웨이는 갭 웨이퍼 - 갈륨 포스 파이드를 제공하며 이는 lec (액체 캡슐화 된 초크 랄 스키)를 epi-ready 또는 기계적 등급으로 n 형, p 형 또는 상이한 배향 (111) 또는 (100)에서 반 절연성을 갖는다.
xiamen powerway는 다른 방향 (111) 또는 (100) 방향으로 n 형, p 형 또는 반 절연성을 지닌 epi-ready 또는 기계 등급으로 lec (액상 캡슐화 된 초크 랄 스키)로 성장한 gasb 웨이퍼 - 갈륨 안티 모나 이드를 제공합니다.
우리는 mbe 또는 mocvd에 의해 성장되는 ga, al, in, as 및 p를 기반으로하는 다양한 유형의 epi 웨이퍼 iii-v 실리콘 도핑 n 형 반도체 물질을 제조하고 있습니다. 우리는 고객 사양을 충족하는 사용자 지정 구조를 제공합니다. 자세한 내용은 문의하시기 바랍니다.
fz- 실리콘 부유 물질 함량이 낮고 결함 밀도가 낮으며 완벽한 결정 구조를 갖는 단결정 실리콘이 부유 - 구역 공정으로 생산된다. 결정 성장 중에 어떠한 이물질도 도입되지 않는다. fz 실리콘 전도도는 일반적으로 1000 Ω-cm 이상이며, fz- 실리콘은 주로 고 역 전압 소자 및 광전자 소자를 생산하는 데 사용됩니다.12
에칭 처리 용 웨이퍼는 조도가 낮고 광택이 좋고 비용이 저렴하다는 특성을 가지며, 비용이 많이 드는 폴리싱 된 웨이퍼 또는 에피 택셜 웨이퍼를 직접적으로 대체하여 일부 분야에서 전자 소자를 제조하여 비용을 절감한다. 저 러프 니스, 저 반사율 및 고 반사율 에칭 웨이퍼가있다.12
갈륨 질화물 (gan) hemts (높은 전자 이동성 트랜지스터)는 rf 전력 트랜지스터 기술의 차세대 기술입니다. 팸 - 샤먼은 현재 사파이어 또는 실리콘에 algan / gan hemt epi 웨이퍼를 제공하고 사파이어 템플릿에는 algan / gan을 제공합니다 .
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